产品展示 Categories
联系我们 contact us
- 联系人:
- 陆先生
- 手机:
- 15895595058
- 电话:
- 0512-58628685
- 地址:
- 张家港市南丰镇
研究型实验设计与实践-数控滚圆机缩管机电动张
添加时间:2019-05-31

采集
转载中国知网整理! http://www.suoguanji.name 论3.1结构表征4个实验得到了相似的XRD谱图,图2给出了实验I样品的XRD谱图,其衍射峰和In2O3的立方相的图谱相吻合。SEM形貌表征(见图3)表明,研究型实验设计与实践-数控滚圆机缩管机电动张家港缩管机数控滚圆机滚弧机实验I中获得小的平均扩散自由程,反应物分子在生长晶体各个晶面沉积后由于其扩散平均自由程较小,将具有更大的概率沉积到各个晶面,因此各个晶面将倾向于各向同性生长。In2O3稳定存在的低指数晶面有(,其表面能!的大小顺序为在低饱和度下,高能面(110)和(100)将快速生长而逐渐减小,而低能面(111)将成为主要的暴露面;在高过饱和度下,晶体倾向于各向同性生长,由于(110)晶面表面能最高,极容易生长消失,导致表面能较高的(100)晶面将成为主要的暴露面。首先分析了实验中反应物分子的过饱和度。在实验中,原料处于高温加热区,通过挥发产生高的饱和蒸气压P1。反应物蒸气随着载气到达低温衬底区(该温度下饱和蒸气压为P2)。由于饱和蒸气压随着温度升高而变大,因此反应物分子被输运到衬底区后将达到过饱和。过饱和度可表示为σ=P1/P2。在相同条件下,当原料加热区和衬底生长区的温差越大,相应产生的过饱和度σ就越大[13]。因此,根据实验设定的原料加热温度和衬底生长温度,在设计的4个实验I、II、III、IV中,其温差逐渐增大,对应反应物过饱和度σ的大小顺序:σI<σII<σIII<σIV。依据上面提出的过饱和度控制下的晶体生长原理,从实验I到实验IV,其反应物过饱和度逐渐增加,生长后晶体的暴露晶面中高能面的比例应该逐渐提高。这一分析?研究型实验设计与实践-数控滚圆机缩管机电动张家港缩管机数控滚圆机滚弧机本文由全自动缩管机张家港缩管机网站
采集
转载中国知网整理! http://www.suoguanji.name